madagascar centella hyalu-cica hydrating mask 23ml (1ea) Korealainen Ihonhoito|Kasvojenhoito

€3.58

Osastot: Ihonhoito, K-Beauty, Kasvojenhoito, Korealainen Ihonhoito, Kosmetiikka Avainsana tuotteelle SKIN1004 Tuotemerkki: SKIN1004

Kuvaus
Arviot (0)

SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating -kangasnaamio tarjoaa monikerroksista kosteutusta pitkäkestoisen kosteuden ylläpitämiseksi.

Kahdeksaa eri hyaluronihappoa sisältävä kangasnaamio syväkosteuttaa ja sitoo kosteuden ihoon, jättäen ihon täyteläiseksi ja hehkuvaksi. Centella asiatica -uute ja xylitol rauhoittavat ihoa ja vahvistavat ihon suojamuuria. Keramidit ja skvalaani muodostavat iholle kosteuttavan kalvon, joka ehkäisee kosteuden haihtumista ja suojaa ihon suojamuuria.

Sopii kaikille ihotyypeille, jotka kaipaavat lisäkosteutusta rutiiniin.

Ainesosat

Water, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, 1,2-Hexanediol, Glyceryl Glucoside, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Allantoin, Carbomer, Arginine, Xylitol, Centella Asiatica Extract(1,000 ppm), Polyglyceryl-10 Laurate, Ethylhexylglycerin, Xanthan Gum, Adenosine, Glucose, Disodium EDTA, Hydrogenated Lecithin, Musa Sapientum (Banana) Flower Extract, Rosa Damascena Flower Water, Pyrus Communis (Pear) Fruit Extract, Prunus Domestica Fruit Extract, Squalane, Cucumis Melo (Melon) Fruit Extract, Hedera Helix (Ivy) Leaf/Stem Extract, Sodium Hyaluronate(3.5 ppm), Ceramide NP, Cetyl Ethylhexanoate, Cholesterol, Macadamia Ternifolia Seed Oil, Brassica Campestris (Rapeseed) Sterols, Oleic Acid, Stearic Acid, Tocopherol, Hyaluronic Acid(0.1 ppm), Hydrolyzed Hyaluronic Acid(0.1 ppm), Hydrolyzed Sodium Hyaluronate(0.1 ppm), Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate(0.1 ppm), Potassium Hyaluronate(0.1 ppm), Sodium Hyaluronate Crosspolymer(0.1 ppm), Pentylene Glycol, Sodium Acetylated Hyaluronate(0.07 ppm)

(Tarkastathan aina ainesosaluettelon tuotepakkauksesta)